四ハロゲン化ケイ素と三ハロゲン化ホウ素のルイス酸性の傾向の違い 公開日:03/07/2023 化学無機化学 四ハロゲン化ケイ素のルイス酸性の傾向 SiI4 < SiBr4 < SiCl4 < SiF4 三ハロゲン化ホウ素のルイス酸の傾向 BF3 < BCl3 < BBr3 < BI3 傾向の原因 フッ素の高い電気陰性度により、中心のSiから電子が引き抜かれ、Siを強い求核性にする。 ほとんど立体障害のない、小さなF原子と結合することにより、SiF4は四つの化合物の中で最も強いルイス酸性を示す。 水素化ホウ素のルイス酸性度の順番は付加された電子的な効果によるもの。 関連 タグ 酸と塩基 関連記事 VSEPRモデル「分子の形一覧」「有機化学」反応機構の矢印の書き方ルール酸素分子、超酸化物イオン、過酸化物イオンの相対的な結合長と結合力を予測超原子価とかいう学生を困らせる概念「NH4+」アンモニウムイオンの構造をルイス構造とVSEPRで予測する『溶液中』拡散律速の時の速度定数を導出! 投稿ナビゲーション 置換型固溶体と侵入型固溶体ヤーン・テラー効果「錯体のひずみを説明する」