四ハロゲン化ケイ素と三ハロゲン化ホウ素のルイス酸性の傾向の違い 公開日:03/07/2023 化学無機化学 四ハロゲン化ケイ素のルイス酸性の傾向 SiI4 < SiBr4 < SiCl4 < SiF4 三ハロゲン化ホウ素のルイス酸の傾向 BF3 < BCl3 < BBr3 < BI3 傾向の原因 フッ素の高い電気陰性度により、中心のSiから電子が引き抜かれ、Siを強い求核性にする。 ほとんど立体障害のない、小さなF原子と結合することにより、SiF4は四つの化合物の中で最も強いルイス酸性を示す。 水素化ホウ素のルイス酸性度の順番は付加された電子的な効果によるもの。 関連 タグ 酸と塩基 関連記事 「合成レシピ」Hartwig-Buchwald芳香族アミノ化反応によるアニリン誘導体の合成メタロセン触媒とα-ジイミン配位子触媒によるポリエチレンの構造的特徴フェノール樹脂の基礎:ノボラック脂とレゾール脂の生成反応と特徴Grignard試薬の滴定法:概要と手順[CuCl₅]³⁻錯体の三方両錐形構造における結合距離について解説高分子と低分子の溶液性質の違い 投稿ナビゲーション 置換型固溶体と侵入型固溶体ヤーン・テラー効果「錯体のひずみを説明する」