四ハロゲン化ケイ素と三ハロゲン化ホウ素のルイス酸性の傾向の違い 公開日:03/07/2023 化学無機化学 四ハロゲン化ケイ素のルイス酸性の傾向 SiI4 < SiBr4 < SiCl4 < SiF4 三ハロゲン化ホウ素のルイス酸の傾向 BF3 < BCl3 < BBr3 < BI3 傾向の原因 フッ素の高い電気陰性度により、中心のSiから電子が引き抜かれ、Siを強い求核性にする。 ほとんど立体障害のない、小さなF原子と結合することにより、SiF4は四つの化合物の中で最も強いルイス酸性を示す。 水素化ホウ素のルイス酸性度の順番は付加された電子的な効果によるもの。 関連 タグ 酸と塩基 関連記事 マルコフニコフ則「求電子付加の配向性」を簡単に考える混成軌道一覧「合成レシピ」メチルエーテルの脱保護反応:実験手順とポイントジボラン(B2H6)のB-H結合距離は2種類存在する!詳細解説【IF6+】六フッ化ヨウ素カチオンのルイス構造とVSEPR有機リチウム試薬と溶媒の選択:THFとエーテルの分解メカニズム 投稿ナビゲーション 置換型固溶体と侵入型固溶体ヤーン・テラー効果「錯体のひずみを説明する」